首页> 中国专利> 线圈图案及其形成方法以及具有线圈图案的芯片装置

线圈图案及其形成方法以及具有线圈图案的芯片装置

页面导航

摘要

本发明提供一种线圈图案及其形成方法以及具有线圈图案的芯片装置，所述线圈图案形成于衬底的至少一个表面上且包括：第一镀覆膜，形成于所述衬底上；以及第二镀覆膜，被形成为覆盖所述第一镀覆膜。

公开/公告号CN108701539A

专利类型发明专利
公开/公告日2018-10-23

原文格式PDF
申请/专利权人摩达伊诺琴股份有限公司;
展开▼

申请/专利号CN201780015301.3
发明设计人朴寅吉;赵承勳;金炅泰;郑俊镐;朴相俊;
展开▼

申请日2017-03-13
分类号H01F41/04(20060101);H01F17/00(20060101);H01F27/28(20060101);H01F27/32(20060101);
代理机构11205 北京同立钧成知识产权代理有限公司;
代理人马爽;臧建明
地址韩国京畿道安山市檀园区东山路27便道42-7(邮递:15433)
入库时间 2023-06-19 06:55:48

1. 线圈图案及其形成方法以及具有线圈图案的芯片装置 [P] . 中国专利： CN108701539B . 2020.09.22
2. 线圈图案及其形成方法以及包含其的晶片装置 [P] . 中国专利： CN108701538B . 2021.02.26
3. Coil pattern and method of forming the same and chip device having the coil pattern [P] . 韩国专利： KR101898112B1 . 2018-09-12

机译：线圈图案及其形成方法以及具有该线圈图案的芯片装置
4. Coil pattern and method of forming the same and chip device having the coil pattern [P] . 韩国专利： KR101818170B1 . 2018-01-12

机译：线圈图案及其形成方法以及具有该线圈图案的芯片装置
5. Coil pattern and method of forming the same and chip device having the coil pattern [P] . 韩国专利： KR20180011828A . 2018-02-02

机译：线圈图案及其形成方法以及具有该线圈图案的芯片装置