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一种对1550nm波段手性光存在选择性透过差异的空间扭转三维纳米结构及其制备方法

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本发明公开了一种对1550 nm波段手性光存在选择性透过差异的空间扭转三维纳米结构及其制备方法，涉及微纳加工技术领域，所述三维纳米结构为圆形，从下至上依次包括堆叠的金属纳米结构层、绝缘层和金属纳米结构层，所述金属纳米结构层为对称设置的纳米半圆阵列，所述纳米半圆阵列之间设有间隙，所述上下金属纳米结构层间隙之间的夹角为60°；本发明空间扭转三维纳米结构在1550 nm波段这一重要的光通讯波段实现了手性光的差异性响应，对手性光的的透过率差异大，且通过调节绝缘层折射率可以实现差异性响应波段的调节。

著录项

公开/公告号CN112068230A

专利类型发明专利
公开/公告日2020-12-11

原文格式PDF
申请/专利权人杭州电子科技大学;
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申请/专利号CN202010835729.6
发明设计人张雪峰;屠蕊;张鉴;
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申请日2020-08-19
分类号G02B5/00(20060101);G03F7/00(20060101);B82Y20/00(20110101);B82Y40/00(20110101);
代理机构33109 杭州杭诚专利事务所有限公司;
代理人尉伟敏
地址 310018 浙江省杭州市江干区下沙高教园区
入库时间 2023-06-19 08:04:59

法律信息

法律状态公告日

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法律状态
2022-03-22

授权

发明专利权授予

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