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全场结构光相干编码断层成像装置及方法

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本发明公开了一种全场结构光相干编码断层成像装置及方法。装置包括结构化科勒照明系统、分光棱镜、第一显微物镜、第二显微物镜、参考镜、压电陶瓷、样品、三轴位移平台、成像透镜、面阵相机。方法为：所述结构光科勒照明系统发出的会聚光由分光棱镜分成完全相同的两束光，分别入射至一对完全相同的第一显微物镜、第二显微物镜的后焦面，在参考镜和样品表面形成视场和光强可调节的均匀结构照明；所述样品设置于三轴位移平台上，从样品返回的样品光与参考镜返回的参考光在分光棱镜处发生干涉，干涉光经过成像透镜聚焦到面阵相机上。本发明具有并行成像分辨率高、照明模式易编程、算法易移植、测量时间短、样品类别不受限等优点。

著录项

公开/公告号CN111610150A

专利类型发明专利
公开/公告日2020-09-01

原文格式PDF
申请/专利权人南京理工大学;
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申请/专利号CN202010366785.X
发明设计人朱越;高万荣;
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申请日2020-04-30
分类号G01N21/23(20060101);G01B9/02(20060101);
代理机构32203 南京理工大学专利中心;
代理人薛云燕
地址 210094 江苏省南京市玄武区孝陵卫200号
入库时间 2023-06-19 08:08:08

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2023-05-05

授权

发明专利权授予

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