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真空系统中光学元件表面沉积污染物的去除方法

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一种真空系统中光学元件表面沉积污染物的原位去除方法，本发明通过引入离子源及中和器到真空系统中，利用离子源轰击真空装置中的元件，以消除真空释气沉积污染。本发明适用于真空激光系统中激光光学元件表面污染物原位去除、且不引入新的杂质，可大幅度提高污染物去除效率，提高元件抗激光损伤性能及使用寿命。

著录项

公开/公告号CN111957675A

专利类型发明专利
公开/公告日2020-11-20

原文格式PDF
申请/专利权人中国科学院上海光学精密机械研究所;
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申请/专利号CN202010595418.7
发明设计人王胭脂;郭可升;陈瑞溢;张宇辉;朱晔新;朱美萍;张伟丽;王建国;孙建;易葵;邵建达;
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申请日2020-06-28
分类号B08B7/00(20060101);B08B13/00(20060101);
代理机构31317 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙);
代理人张宁展
地址 201800 上海市嘉定区清河路390号
入库时间 2023-06-19 08:58:14

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