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一种抑制板条激光器/激光放大器自发辐射放大的结构及方法

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摘要

本发明公开了一种抑制板条激光器/激光放大器自发辐射放大的结构及方法，属于激光技术领域，包括增益介质和外部介质，其特征在于：所述增益介质和外部介质之间设置有至少三层具有不同折射率的光学薄膜，每层所述光学薄膜的折射率介于所述增益介质和外部介质之间，且所述光学薄膜的折射率沿所述增益介质到外部介质的方向依次降低；本发明既能满足主激光的正常传输和放大，又能够显著抑制自发辐射放大过程；本发明适用性广，可用于任何基于全内反射激光放大过程的激光器、激光放大器等的自发辐射放大过程的抑制；且结构简单，不会带来额外的设计和建造难度，成本低。

著录项

公开/公告号CN112134129A

专利类型发明专利
公开/公告日2020-12-25

原文格式PDF
申请/专利权人中国工程物理研究院激光聚变研究中心;
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申请/专利号CN202011038506.3
发明设计人郑天然;王方;胡东霞;李明中;刘红婕;孙喜博;
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申请日2020-09-28
分类号H01S3/06(20060101);
代理机构51235 绵阳市博图知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人黎仲
地址 621000 四川省绵阳市绵山路64号
入库时间 2023-06-19 09:19:57

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2023-04-25

发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H01S 3/06 专利申请号:2020110385063 申请公布日:20201225

发明专利申请公布后的驳回

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1. 一种抑制板条激光器/激光放大器自发辐射放大的结构及方法 [P] . 中国专利： CN112134129A . 2020-12-25
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