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公开/公告号CN112147021A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-12-29
原文格式PDF
申请/专利权人 中国船舶重工集团公司第七二五研究所;
申请/专利号CN202010795971.5
发明设计人 范林;丁康康;侯健;孙明先;马力;张海兵;张彭辉;
申请日2020-08-10
分类号G01N3/56(20060101);G01N3/06(20060101);G01N17/02(20060101);C25D11/00(20060101);
代理机构
代理人
地址 266000 山东省青岛市市南区金湖路12号甲
入库时间 2023-06-19 09:21:28
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-07-29
授权
发明专利权授予
机译: 一种钝化覆盖有锡涂层的金属带的表面的方法和用于钝化金属带的表面的装置。
机译: 用于显示设备的阵列基板,例如LCD装置具有布置在钝化膜上的像素电极,该像素电极通过蚀刻钝化膜形成的接触孔与漏电极和阻挡金属层接触
机译: 锌等上的硬质抗腐蚀钝化膜-使用三价铬,有机酸和另一种金属盐,尤其是。铈
机译:一种新型非线性导电ZnO微压敏电阻/环氧树脂复合膜,用于DC GIL中的金属颗粒钝化
机译:钝化膜可保护金属表面,是由Yako 1液体的一种工艺制成的表面处理剂而开发的。
机译:丝网印刷碳电极上的异位沉积铋膜:一种用于重金属离子溶出伏安法的一次性装置
机译:一种快速,钻机ITE可部署电化学测试,用于评估Shales的膜势
机译:镍铬钼合金和铁基大块金属玻璃上的钝化膜的性能和耐久性
机译:消除氯对金属钝化膜的侵蚀
机译:通过表面波等离子体进行氮化硅膜的化学气相沉积,用于AlGaN / GaN装置的表面钝化
机译:一种用于测量极真空紫外线中薄金属膜的反射,透射和光电子产率的装置