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光谱响应电致变色薄膜光谱特性与绝缘性能的调控方法

摘要

本发明涉及一种光谱响应电致变色薄膜光谱特性与绝缘性能的调控方法,包括以下步骤:在硅基底上制备电致变色/绝缘复合材料薄膜,其中,通过调控绝缘材料在复合材料薄膜中的配比,控制电阻率的变化;在所述复合材料薄膜表面蒸镀金作为金电极,形成金电极‑聚合物薄膜‑硅电极的三明治结构器件;利用紫外可见光谱测试所述结构器件的光谱信息,确定所述结构器件的光学透过率;利用Agilent Keysight B2900A Quick IV测试仪测试所述结构器件在不同额定电压作用下的工作电流,获取所述结构器件在不同外施电压下的电阻率的值,确定所述结构器件的绝缘性能;获取绝缘性能与光学透过率最佳的金电极‑聚合物薄膜‑硅电极的三明治结构器件。

著录项

  • 公开/公告号CN112526300A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-03-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN202011344713.1

  • 申请日2020-11-25

  • 分类号G01R31/12(20060101);G01N21/59(20060101);G02F1/153(20060101);G02F1/155(20060101);G02F1/163(20060101);G02F1/1516(20190101);

  • 代理机构11363 北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人逯长明;许伟群

  • 地址 650217 云南省昆明市经济技术开发区云大西路105号

  • 入库时间 2023-06-19 10:19:37

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-08-26

    授权

    发明专利权授予

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