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基于均匀线源辐射场产生任意空间指向光针焦场的方法

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摘要

本发明涉及一种基于均匀线源辐射场产生任意空间指向光针焦场的方法，其特征在于，由两个共焦的高数值孔径物镜建立4Pi光学聚焦系统，在两个物镜的公共焦点处放置空间指向可任意调整的虚拟均匀线源天线，所述虚拟均匀线源天线产生的辐射场被两个物镜完全汇聚并准直到光瞳面，通过时间反演技术，逆转虚拟均匀线源天线辐射场求得光瞳面特定分布的入射场；实现所述入射场，从光瞳面入射，经4Pi光学聚焦系统反向传输汇聚，在4Pi光学聚焦系统的焦区形成任意空间指向且长度可控的光针焦场。该方法有利于灵活定制所需特性的光针焦场。

著录项

  • 公开/公告号CN112558297A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-03-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 泉州师范学院;

    申请/专利号CN202011472884.2

  • 发明设计人 曾永西;余燕忠;陈木生;曾峥;黄晗;吴平辉;

    申请日2020-12-15

  • 分类号G02B27/00(20060101);

  • 代理机构35100 福州元创专利商标代理有限公司;

  • 代理人丘鸿超;蔡学俊

  • 地址 362000 福建省泉州市丰泽区东海大街398号

  • 入库时间 2023-06-19 10:24:22

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-12-13

    授权

    发明专利权授予

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