一种搪玻璃设备的搪烧罐

技术领域

本发明属于玻璃设备领域，更具体的说，尤其涉及到一种搪玻璃设备的搪烧罐。

背景技术

搪烧罐将含高二氧化硅的玻璃衬在金属反应罐内部，经过高温烧制后牢固粘在金属表面，由于搪烧罐具有稳定性等特点在化工加工领域的应用范围广泛，将化学反应物质通入到罐体内部进行反应；现有技术中将化学物质通入到搪烧罐反应时，由于部分的化学反应物为硬度大的固体，由于进料管垂直设在罐体顶部，当固体物质通过进料管输送至罐体内部时，固体物质往下掉落与罐体内壁的玻璃碰撞力大，易出现玻璃剖裂的现象，导致反应物中的液体沿着裂痕通过，对金属反应罐造成腐蚀。

发明内容

为了解决上述技术将化学物质通入到搪烧罐反应时，由于部分的化学反应物为硬度大的固体，由于进料管垂直设在罐体顶部，当固体物质通过进料管输送至罐体内部时，固体物质往下掉落与罐体内壁的玻璃碰撞力大，易出现玻璃剖裂的现象，导致反应物中的液体沿着裂痕通过，对金属反应罐造成腐蚀，本发明提供一种搪玻璃设备的搪烧罐。

为了实现上述目的，本发明是通过如下的技术方案来实现：一种搪玻璃设备的搪烧罐，其结构包括底座、罐体、取料口，所述罐体焊接在底座顶部，所述取料口设置在罐体右端顶部。

所述罐体设有反应腔、进料管、缓冲机构，所述反应腔位于罐体内部，所述进料管贯穿罐体顶部，所述缓冲机构安装在反应腔内底部。

作为本发明的进一步改进，所述缓冲机构设有支撑环、轴承、转动圈、清除杆，所述支撑环位于缓冲机构底部，所述转动圈中部通过轴承衔接安装在支撑环顶部中心位置，所述清除杆固定在支撑环内壁，所述转动圈为凹凸不平的表面。

作为本发明的进一步改进，所述转动圈设有支撑杆、限位块、弹块，所述支撑杆设在转动圈中部，所述限位块与支撑杆外壁连接为一体，所述弹块安装在支撑杆外壁，且与限位块活动配合，所述限位块两侧表面设有凹槽。

作为本发明的进一步改进，所述弹块设有伸缩块、支架、卡块、推条、气腔、排气孔，所述伸缩块位于弹块底端，所述支架安装在伸缩块顶面，所述卡块衔接安装在支架顶部两端，所述推条连接在支架与卡块的侧面，所述气腔处于伸缩块和支架之间，所述排气孔贯穿支架顶部表面，且与气腔相连通，所述伸缩块为橡胶材质，所述卡块设有两块，呈左右对称分布。

作为本发明的进一步改进，所述清除杆设有支撑架、内槽、推球、清除块、连接轴、弹条，所述支撑架位于清除杆底部，所述内槽设在支撑架内部，所述推球设置在内槽内部，所述清除块通过连接轴衔接安装在支撑架顶部两端，所述弹条夹在清除块之间内侧，所述内槽底部的高度由两端往中部逐渐降低。

作为本发明的进一步改进，所述清除块设有块体、推块、半弧块，所述块体位于清除块左侧，所述半弧块通过推块设置在块体右侧面，所述半弧块设有七个。

有益效果

与现有技术相比，本发明具有如下有益效果：

1、当固体物质通过进料管输送至罐体内部时，通过缓冲机构的弹块对掉落的物质缓冲后反弹，减小固体物质往下掉落与罐体内壁的玻璃碰撞力，减少出现玻璃剖裂的现象，有利于反应罐正常使用。

2、由于物质卡在排气孔中时，导致排气孔堵塞而气流的扩散速度减慢，清除杆的清除块进入到排气孔中，通过半弧块将排气孔中的滞留的物质清除，有利于保持排气孔畅通，加快气流沿着排气孔扩散。

附图说明

图1为本发明一种搪玻璃设备的搪烧罐的结构示意图。

图2为本发明一种罐体内部正视及侧视的结构示意图。

图3为本发明一种缓冲机构侧面剖视的结构示意图。

图4为本发明一种转动圈侧视的结构示意图。

图5为本发明一种弹块侧面剖视的结构示意图。

图6为本发明一种清除杆侧面剖视的结构示意图。

图7为本发明一种清除块侧视的结构示意图。

图中：底座-1、罐体-2、取料口-3、反应腔-21、进料管-22、缓冲机构-23、支撑环-a1、轴承-a2、转动圈-a3、清除杆-a4、支撑杆-s1、限位块-s2、弹块-s3、伸缩块-d1、支架-d2、卡块-d3、推条-d4、气腔-d5、排气孔-d6、支撑架-r1、内槽-r2、推球-r3、清除块-r4、连接轴-r5、弹条-r6、块体-t1、推块-t2、半弧块-t3。

具体实施方式

以下结合附图对本发明做进一步描述：

实施例1：

如附图1至附图5所示：

本发明提供一种搪玻璃设备的搪烧罐，其结构包括底座1、罐体2、取料口3，所述罐体2焊接在底座1顶部，所述取料口3设置在罐体2右端顶部。

所述罐体2设有反应腔21、进料管22、缓冲机构23，所述反应腔21位于罐体2内部，所述进料管22贯穿罐体2顶部，所述缓冲机构23安装在反应腔21内底部。

其中，所述缓冲机构23设有支撑环a1、轴承a2、转动圈a3、清除杆a4，所述支撑环a1位于缓冲机构23底部，所述转动圈a3中部通过轴承a2衔接安装在支撑环a1顶部中心位置，所述清除杆a4固定在支撑环a1内壁，所述转动圈a3为凹凸不平的表面，有利于增大转动圈a3与反应物的接触面积，且增大转动圈a3的受力面积，加快转动圈a3的转动速度。

其中，所述转动圈a3设有支撑杆s1、限位块s2、弹块s3，所述支撑杆s1设在转动圈a3中部，所述限位块s2与支撑杆s1外壁连接为一体，所述弹块s3安装在支撑杆s1外壁，且与限位块s2活动配合，所述限位块s2两侧表面设有凹槽，有利于与弹块s3两端活动配合，能够对弹块s3限位。

其中，所述弹块s3设有伸缩块d1、支架d2、卡块d3、推条d4、气腔d5、排气孔d6，所述伸缩块d1位于弹块s3底端，所述支架d2安装在伸缩块d1顶面，所述卡块d3衔接安装在支架d2顶部两端，所述推条d4连接在支架d2与卡块d3的侧面，所述气腔d5处于伸缩块d1和支架d2之间，所述排气孔d6贯穿支架d2顶部表面，且与气腔d5相连通，所述伸缩块d1为橡胶材质，具有弹性，有利于受到支架d2的推力形变，能够对物料缓冲，减小物料对罐体内壁的冲击力，所述卡块d3设有两块，呈左右对称分布，有利于卡块d3摆动与限位块s2活动配合限位。

本实施例的具体使用方式与作用：

本发明中，将化学反应物质往进料管22输送至罐体2内部的反应腔21中，物质沿着进料管22往下掉落时，缓冲机构23的转动圈a3对物料承接，弹块s3的支架d2受到物料的推力将伸缩块d1推动形变，且卡块d3以支架d2为支点摆动与限位块s2活动配合对弹块s3的移动位置限位，伸缩块d1复位后将支架d2顶部的物质反弹，支架d1往下移动时，气腔d5中气流沿着排气孔d6扩散，气流将滞留在支架d2表面的物质吹动掉落，且转动圈a3受到物质的冲击力以轴承a2和支撑环a1转动，转动圈a3与清除杆a4活动配合加快转动速度，转动的过程中将物质带动分散，有利于物质充分接触反应，通过缓冲机构23的弹块s3对掉落的物质缓冲后反弹，减小固体物质往下掉落与罐体2内壁的玻璃碰撞力，减少出现玻璃剖裂的现象，有利于反应罐正常使用。

实施例2：

如附图6至附图7所示：

其中，所述清除杆a4设有支撑架r1、内槽r2、推球r3、清除块r4、连接轴r5、弹条r6，所述支撑架r1位于清除杆a4底部，所述内槽r2设在支撑架r1内部，所述推球r3设置在内槽r2内部，所述清除块r4通过连接轴r5衔接安装在支撑架r1顶部两端，所述弹条r6夹在清除块r4之间内侧，所述内槽r2底部的高度由两端往中部逐渐降低，有利于推球r3沿着斜面滚动，对支撑架r1冲击摆动，有利于增大清除杆a4摆动力，加快推动转动圈a3转动。

其中，所述清除块r4设有块体t1、推块t2、半弧块t3，所述块体t1位于清除块r4左侧，所述半弧块t3通过推块t2设置在块体t1右侧面，所述半弧块t3设有七个，有利于清除块r4进入到排气孔d6内壁后，通过半弧块t3将排气孔d3内壁滞留的物质清除，能够使得排气孔d3畅通。

本实施例的具体使用方式与作用：

本发明中，转动圈a3转动的过程中，弹条r6以支撑架r1和连接轴r5为支点将清除块r4推动，清除块r4进入到排气孔d6中，通过半弧块t3将排气孔d6内壁的物质清除，推块t2带动半弧块t3震动，有利于半弧块t3震动外壁的物质抖动掉落，且清除杆a4与转动圈a3接触时，推球r3在支撑架r1的内槽r2滚动，使得清除杆a4摆动，清除杆a4与转动圈a3活动配合，加快转动圈a3的转动速度，通过清除杆a4的清除块r4进入到排气孔d6中，通过半弧块t3将排气孔d6中的滞留的物质清除，有利于保持排气孔d6畅通，加快气流沿着排气孔d6扩散。

利用本发明所述技术方案，或本领域的技术人员在本发明技术方案的启发下，设计出类似的技术方案，而达到上述技术效果的，均是落入本发明的保护范围。