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一种氮化镓反应釜的分部清洗装置及分部清洗方法

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摘要

本发明公开了一种氮化镓反应釜的分部清洗装置及分部清洗方法，属于一种清洗装置和清洗方法，分部清洗装置用于清洗至少具有釜盖和釜体的反应釜，包括清洗模组和管路系统，所述清洗模组至少包括若干用于清洗釜体的釜体清洗部、以及若干用于清洗釜盖的釜盖清洗部，所述管路系统将反应溶液、水和高温气体依次地分别通入釜体清洗部和釜盖清洗部，以釜体清洗部中的釜体和清洗釜盖清洗部中的釜盖；解决了现有技术的清洗装置无法满足大尺寸的反应釜的清洗需求的问题。

著录项

  • 公开/公告号CN112620270A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-04-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 国镓芯科(深圳)半导体科技有限公司;

    申请/专利号CN202011427308.6

  • 发明设计人 乔焜;邵文锋;林岳明;

    申请日2020-12-07

  • 分类号B08B9/093(20060101);B08B13/00(20060101);F26B21/00(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 518000 广东省深圳市福田区华富街道新田社区彩田路3030号橄榄鹏苑B座2706

  • 入库时间 2023-06-19 10:35:20

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-07-28

    专利申请权的转移 IPC(主分类):B08B 9/093 专利申请号:2020114273086 登记生效日:20230718 变更事项:申请人 变更前权利人:国镓芯科(深圳)半导体科技有限公司 变更后权利人:国镓芯科(成都)半导体科技有限公司 变更事项:地址 变更前权利人:518000 广东省深圳市福田区华富街道新田社区彩田路3030号橄榄鹏苑B座2706 变更后权利人:610000 四川省成都市中国(四川)自由贸易试验区成都高新区天府五街200号5号楼B区2楼221室

    专利申请权、专利权的转移

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