一种尖灭砂体样式建模方法和系统

技术领域

本申请实施例涉及油气田开发技术领域，具体涉及一种尖灭砂体样式建模方法和系统。

背景技术

油藏剖面图是地质研究工作中重要并常见的图件，绘制尖灭砂体是油藏剖面图中常见且频繁的工作。地质油藏工程师往往需要根据油藏中砂体发育情况绘制不同的砂体形态，同时需要对相同类型的砂体进行快速绘制或调整。

如何把当前确定的砂体形态快速应用到其他目标砂体上，是亟待解决的问题。

发明内容

为此，本申请实施例提供一种尖灭砂体样式建模方法和系统，是在剖面图中尖灭砂体样式格式刷的实现方案，可实现尖灭砂体样式的快速复制和应用，确保应用样式的美观和准确、不变形，并有效消除源砂体长度和砂体角度影响。

为了实现上述目的，本申请实施例提供如下技术方案：

根据本申请实施例的第一方面，提供了一种尖灭砂体样式建模方法，所述方法包括：

源尖灭砂体形态调整完毕后，对砂体形态进行非曲线化处理；

计算源砂体控制点ControlPT；根据源砂体基线和所述源砂体控制点，计算源砂体空间；

计算每个源砂体节点在砂体空间的相对坐标；保存每个源砂体所有节点的相对坐标ResCoord，形成尖灭样式模板；

选中目标尖灭砂体后，对目标尖灭砂体进行非曲线化处理；

计算目标砂体控制点ControlPT；根据目标砂体基线和目标砂体控制点，计算目标砂体空间；

读取所述尖灭样式模板中存储节点的相对坐标ResCoord，计算所述相对坐标在目标砂体空间的绝对坐标；

重新根据当前的双曲线地层空间进行砂体线的曲线化处理。

可选地，所述对砂体形态进行非曲线化处理，包括：

计算砂体线节点在地层双曲线空间的相对位置；

根据所述相对位置计算砂体线节点在直线地层空间的绝对位置。

可选地，所述根据源砂体基线和所述源砂体控制点，计算源砂体空间，包括：

根据源砂体基线p1-p5和源砂体控制点ControlPT，计算砂体空间四个角点LT、LB、RT、RB，以确定砂体空间坐标。

可选地，所述确定砂体空间坐标包括如下步骤：

计算左线LT-LB在地层空间的相对长度RefLength；

根据源砂体控制点ControlPT上移半个RefLength和下移半个RefLength，得到RT和RB在地层空间相对坐标；

根据所述相对坐标计算RT和RB的实际坐标。

可选地，所述根据目标砂体基线和目标砂体控制点，计算目标砂体空间，包括：

计算目标尖灭砂体控制点ControlPT实际位置及在直线地层空间的相对坐标；

根据目标砂体基线和目标尖灭砂体控制点，计算目标砂体空间四个角点LT、LB、RT、RB，以确定砂体空间。

根据本申请实施例的第二方面，提供了一种尖灭砂体样式建模系统，所述系统包括：

非曲线化处理模块，用于源尖灭砂体形态调整完毕后，对砂体形态进行非曲线化处理；

源砂体空间计算模块，用于计算源砂体控制点ControlPT；根据源砂体基线和所述源砂体控制点，计算源砂体空间；

尖灭样式模板建立模块，用于计算每个源砂体节点在砂体空间的相对坐标；保存每个源砂体所有节点的相对坐标ResCoord，形成尖灭样式模板；

所述非曲线化处理模块，还用于当选中目标尖灭砂体后，对目标尖灭砂体进行非曲线化处理；

目标砂体空间计算模块，用于计算目标砂体控制点ControlPT；根据目标砂体基线和目标砂体控制点，计算目标砂体空间；还用于读取所述尖灭样式模板中存储节点的相对坐标ResCoord，计算所述相对坐标在目标砂体空间的绝对坐标；

曲线化处理模块，用于重新根据当前的双曲线地层空间进行砂体线的曲线化处理。

可选地，所述非曲线化处理模块，具体用于：

计算砂体线节点在地层双曲线空间的相对位置；

根据所述相对位置计算砂体线节点在直线地层空间的绝对位置。

可选地，所述源砂体空间计算模块，具体用于：

根据源砂体基线p1-p5和源砂体控制点ControlPT，计算砂体空间四个角点LT、LB、RT、RB，以确定砂体空间坐标。

可选地，所述确定砂体空间坐标包括如下步骤：

计算左线LT-LB在地层空间的相对长度RefLength；

根据源砂体控制点ControlPT上移半个RefLength和下移半个RefLength，得到RT和RB在地层空间相对坐标；

根据所述相对坐标计算RT和RB的实际坐标。

可选地，所述目标砂体空间计算模块，具体用于：

计算目标尖灭砂体控制点ControlPT实际位置及在直线地层空间的相对坐标；

根据目标砂体基线和目标尖灭砂体控制点，计算目标砂体空间四个角点LT、LB、RT、RB，以确定砂体空间。

根据本申请实施例的第三方面，提供了一种设备，所述设备包括：数据采集装置、处理器和存储器；所述数据采集装置用于采集数据；所述存储器用于存储一个或多个程序指令；所述处理器，用于执行一个或多个程序指令，用以执行第一方面任一项所述的方法。

根据本申请实施例的第四方面，提供了一种计算机可读存储介质，所述计算机存储介质中包含一个或多个程序指令，所述一个或多个程序指令用于执行如第一方面任一项所述的方法。

综上所述，本申请实施例提供了一种尖灭砂体样式建模方法和系统，通过源尖灭砂体形态调整完毕后，对砂体形态进行非曲线化处理；计算源砂体控制点ControlPT；根据源砂体基线和所述源砂体控制点，计算源砂体空间；计算每个源砂体节点在砂体空间的相对坐标；保存每个源砂体所有节点的相对坐标ResCoord，形成尖灭样式模板；选中目标尖灭砂体后，对目标尖灭砂体进行非曲线化处理；计算目标砂体控制点ControlPT；根据目标砂体基线和目标砂体控制点，计算目标砂体空间；读取所述尖灭样式模板中存储节点的相对坐标ResCoord，计算所述相对坐标在目标砂体空间的绝对坐标；重新根据当前的双曲线地层空间进行砂体线的曲线化处理。实现尖灭砂体样式的快速复制和应用，确保应用样式的美观和准确、不变形，并有效消除源砂体长度和砂体角度影响。

附图说明

为了更清楚地说明本发明的实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是示例性的，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图引伸获得其它的实施附图。

本说明书所绘示的结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示的内容，以供熟悉此技术的人士了解与阅读，并非用以限定本发明可实施的限定条件，故不具技术上的实质意义，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本发明所能产生的功效及所能达成的目的下，均应仍落在本发明所揭示的技术内容能涵盖的范围内。

图1为本申请实施例提供的一种尖灭砂体样式建模方法流程示意图；

图2为本申请实施例提供的源尖灭砂体形态的直线化(非曲线化)处理示意图；

图3为本申请实施例提供的控制点ControlPT的计算方法示意图；

图4为本申请实施例提供的砂体空间LT、LR、RT、RB的计算及节点相对坐标的计算示意图；

图5为本申请实施例提供的目标尖灭砂体形态的直线化(非曲线化)处理示意图；

图6为本申请实施例提供的目标砂体空间LT、LR、RT、RB的计算示意图；

图7为本申请实施例提供的目标砂体节点的创建示意图；

图8为本申请实施例提供的目标砂体曲线化处理示意图；

图9为本申请实施例提供的尖灭砂体样式建模系统框图。

具体实施方式

以下由特定的具体实施例说明本发明的实施方式，熟悉此技术的人士可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本发明的其他优点及功效，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

如何把当前确定的砂体形态应用到其他目标砂体，就需要类似格式刷的方法，格式刷就是复制当前内容的格式并应用到其他内容上的技术，尖灭砂体样式格式刷就是复制当前砂体样式的格式，应用到其他砂体上的方法。

图1示出了本申请实施例提供的尖灭砂体样式建模方法，所述方法包括如下步骤：

步骤101：源尖灭砂体形态调整完毕后，对砂体形态进行非曲线化处理；

步骤102：计算源砂体控制点ControlPT；根据源砂体基线和所述源砂体控制点，计算源砂体空间；

步骤103：计算每个源砂体节点在砂体空间的相对坐标；保存每个源砂体所有节点的相对坐标ResCoord，形成尖灭样式模板；

步骤104：选中目标尖灭砂体后，对目标尖灭砂体进行非曲线化处理；

步骤105：计算目标砂体控制点ControlPT；根据目标砂体基线和目标砂体控制点，计算目标砂体空间；

步骤106：读取所述尖灭样式模板中存储节点的相对坐标ResCoord，计算所述相对坐标在目标砂体空间的绝对坐标；

步骤107：重新根据当前的双曲线地层空间进行砂体线的曲线化处理。

在一种可能的实施方式中，在步骤101中，所述对砂体形态进行非曲线化处理，包括：计算砂体线节点在地层双曲线空间的相对位置；根据所述相对位置计算砂体线节点在直线地层空间的绝对位置。

在一种可能的实施方式中，在步骤102中，所述根据源砂体基线和所述源砂体控制点，计算源砂体空间，包括：根据源砂体基线p1-p5和源砂体控制点ControlPT，计算砂体空间四个角点LT、LB、RT、RB，以确定砂体空间坐标。

在一种可能的实施方式中，所述确定砂体空间坐标包括如下步骤：

计算左线LT-LB在地层空间的相对长度RefLength；根据源砂体控制点ControlPT上移半个RefLength和下移半个RefLength，得到RT和RB在地层空间相对坐标；根据所述相对坐标计算RT和RB的实际坐标。

在一种可能的实施方式中，在步骤105中，所述根据目标砂体基线和目标砂体控制点，计算目标砂体空间，包括：

计算目标尖灭砂体控制点ControlPT实际位置及在直线地层空间的相对坐标；根据目标砂体基线和目标尖灭砂体控制点，计算目标砂体空间四个角点LT、LB、RT、RB，以确定砂体空间。

在本申请实施例提供的另一种尖灭砂体样式建模方法中，所述方法包括：

步骤1：源尖灭砂体形态调整完毕后，对砂体形态进行非曲线化处理；具体方法如下：计算砂体线节点在地层双曲线空间的相对位置；根据相对位置计算砂体线节点在非曲线化地层空间(也就是直线地层空间)的绝对位置。图2示出了源尖灭砂体形态的直线化(非曲线化)处理示意图。

步骤2：计算源砂体控制点ControlPT，根据源砂体基线和控制点，计算源砂体空间。

源尖灭砂体p1-p5段，称为砂体的基准线，表征在砂体在井柱子上的起始位置。尖灭砂体控制点ControlPT，表征并控制砂体的方向和长度。ControlPT的坐标计算方法是，X坐标为距离基线最远点的X坐标，Y坐标等于非基线点的Y值最大值与最小值的平均值(图3)。计算砂体控制点在直线地层空间的相对坐标RefCoord(ControlPT)。

在步骤2中，根据基准线p1-p5和砂体控制点ControlPT，计算砂体空间四个角点LT、LB、RT、RB。从而确定砂体空间坐标。图4示出了砂体空间LT、LR、RT、RB的计算及节点相对坐标的计算。砂体空间满足如下要求，一是左线(LT-LB)和右线(RT-RB)的在地层空间的相对长度相等，二是砂体控制点是右线(RT-RB)的中心点，三是左线(LT-LB)就是砂体的基准线。计算左线(LT-LB)在地层空间的相对长度RefLength。根据砂体控制点RefCoord(ControlPT)上移半个RefLength和下移半个RefLength，得到RT和RB在地层空间相对坐标RefCoord(RT)和RefCoord(RT)。最后根据相对坐标计算RT和RB的实际坐标。

步骤3：计算每个源砂体节点在砂体空间的相对坐标。保存这个源砂体所有节点的相对坐标ResCoord，形成尖灭样式模板PinchoutTemplate。

步骤4：选中目标尖灭砂体后，对目标尖灭砂体进行非曲线化处理。图5示出了目标尖灭砂体形态的直线化(非曲线化)处理方法示意图。与步骤1所提方法相同。

步骤5：计算目标尖灭砂体控制点ControlPT实际位置及在直线地层空间的相对坐标，方法同步骤2所提方法相同。根据目标砂体基线和控制点，计算目标砂体空间。四个角点LT、LB、RT、RB，进而确定砂体空间。方法同步骤3所提方法相同。图6示出了目标砂体空间LT、LR、RT、RB的计算示意图。

步骤6：读取尖灭样式模板中存储节点的相对坐标ResCoord，计算其在目标砂体空间的绝对坐标(实际坐标)。根据新的坐标重新生成砂体形态。图7示出了目标砂体节点的创建示意图。

步骤7：重新根据当前的双曲线地层空间进行砂体线的曲线化。图8示出了目标砂体曲线化处理示意图。

可以看出，本申请实施例提供一种在剖面图中尖灭砂体样式格式刷的实现方案，通过计算源砂体砂体空间前的处理，也就是直线化处理思路。进一步计算砂体空间LT、LB、RT、RB以及砂体线在砂体空间的相对坐标计算。进一步，通过尖灭样式格式刷的曲线-直线化处理到砂体空间确定、砂体节点相对坐标计算，到目标砂体节点实际坐标计算和创建，以及直线-曲线化处理流程。实现尖灭砂体样式的快速复制和应用，同时确保应用样式的美观和准确。通过采用砂体空间的相对坐标计算方法，确保砂体形态的准确表达，消除了源砂体长度和砂体方向对砂体形态的影响。通过砂体形态统一到非曲线空间下进行转化，有效避免了砂体的变形问题。

基于相同的技术构思，本申请实施例还提供了一种尖灭砂体样式建模系统，如图9所示，所述系统包括：

非曲线化处理模块901，用于源尖灭砂体形态调整完毕后，对砂体形态进行非曲线化处理；

源砂体空间计算模块902，用于计算源砂体控制点ControlPT；根据源砂体基线和所述源砂体控制点，计算源砂体空间；

尖灭样式模板建立模块903，用于计算每个源砂体节点在砂体空间的相对坐标；保存每个源砂体所有节点的相对坐标ResCoord，形成尖灭样式模板；

所述非曲线化处理模块901，还用于当选中目标尖灭砂体后，对目标尖灭砂体进行非曲线化处理；

目标砂体空间计算模块904，用于计算目标砂体控制点ControlPT；根据目标砂体基线和目标砂体控制点，计算目标砂体空间；还用于读取所述尖灭样式模板中存储节点的相对坐标ResCoord，计算所述相对坐标在目标砂体空间的绝对坐标；

曲线化处理模块905，用于重新根据当前的双曲线地层空间进行砂体线的曲线化处理。

在一种可能的实施方式中，所述非曲线化处理模块901，具体用于：计算砂体线节点在地层双曲线空间的相对位置；根据所述相对位置计算砂体线节点在直线地层空间的绝对位置。

在一种可能的实施方式中，所述源砂体空间计算模块902，具体用于：根据源砂体基线p1-p5和源砂体控制点ControlPT，计算砂体空间四个角点LT、LB、RT、RB，以确定砂体空间坐标。

在一种可能的实施方式中，所述确定砂体空间坐标包括如下步骤：计算左线LT-LB在地层空间的相对长度RefLength；根据源砂体控制点ControlPT上移半个RefLength和下移半个RefLength，得到RT和RB在地层空间相对坐标；根据所述相对坐标计算RT和RB的实际坐标。

在一种可能的实施方式中，所述目标砂体空间计算模块904，具体用于：计算目标尖灭砂体控制点ControlPT实际位置及在直线地层空间的相对坐标；根据目标砂体基线和目标尖灭砂体控制点，计算目标砂体空间四个角点LT、LB、RT、RB，以确定砂体空间。

基于相同的技术构思，本申请实施例还提供了一种设备，所述设备包括：数据采集装置、处理器和存储器；所述数据采集装置用于采集数据；所述存储器用于存储一个或多个程序指令；所述处理器，用于执行一个或多个程序指令，用以执行所述的方法。

基于相同的技术构思，本申请实施例还提供了一种计算机可读存储介质，所述计算机存储介质中包含一个或多个程序指令，所述一个或多个程序指令用于执行所述的方法。

本说明书中上述方法的各个实施例均采用递进的方式描述，各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处。相关之处参见方法实施例的部分说明即可。

需要说明的是，尽管在附图中以特定顺序描述了本发明方法的操作，但这并非要求或者暗示必须按照该特定顺序来执行这些操作，或是必须执行全部所示的操作才能实现期望的结果。附加地或备选地，可以省略某些步骤，将多个步骤合并为一个步骤执行，和/或将一个步骤分解为多个步骤执行。

虽然本申请提供了如实施例或流程图的方法操作步骤，但基于常规或者无创造性的手段可以包括更多或者更少的操作步骤。实施例中列举的步骤顺序仅仅为众多步骤执行顺序中的一种方式，不代表唯一的执行顺序。在实际中的装置或客户端产品执行时，可以按照实施例或者附图所示的方法顺序执行或者并行执行(例如并行处理器或者多线程处理的环境，甚至为分布式数据处理环境)。术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、产品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、产品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，并不排除在包括所述要素的过程、方法、产品或者设备中还存在另外的相同或等同要素。

上述实施例阐明的单元、装置或模块等，具体可以由计算机芯片或实体实现，或者由具有某种功能的产品来实现。为了描述的方便，描述以上装置时以功能分为各种模块分别描述。当然，在实施本申请时可以把各模块的功能在同一个或多个软件和/或硬件中实现，也可以将实现同一功能的模块由多个子模块或子单元的组合实现等。以上所描述的装置实施例仅仅是示意性的，例如，所述单元的划分，仅仅为一种逻辑功能划分，实际实现时可以有另外的划分方式，例如多个单元或组件可以结合或者可以集成到另一个系统，或一些特征可以忽略，或不执行。另一点，所显示或讨论的相互之间的耦合或直接耦合或通信连接可以是通过一些接口，装置或单元的间接耦合或通信连接，可以是电性，机械或其它的形式。

本领域技术人员也知道，除了以纯计算机可读程序代码方式实现控制器以外，完全可以通过将方法步骤进行逻辑编程来使得控制器以逻辑门、开关、专用集成电路、可编程逻辑控制器和嵌入微控制器等的形式来实现相同功能。因此这种控制器可以被认为是一种硬件部件，而对其内部包括的用于实现各种功能的装置也可以视为硬件部件内的结构。或者甚至，可以将用于实现各种功能的装置视为既可以是实现方法的软件模块又可以是硬件部件内的结构。

本申请可以在由计算机执行的计算机可执行指令的一般上下文中描述，例如程序模块。一般地，程序模块包括执行特定任务或实现特定抽象数据类型的例程、程序、对象、组件、数据结构、类等等。也可以在分布式计算环境中实践本申请，在这些分布式计算环境中，由通过通信网络而被连接的远程处理设备来执行任务。在分布式计算环境中，程序模块可以位于包括存储设备在内的本地和远程计算机存储介质中。

通过以上的实施方式的描述可知，本领域的技术人员可以清楚地了解到本申请可借助软件加必需的通用硬件平台的方式来实现。基于这样的理解，本申请的技术方案本质上或者说对现有技术做出贡献的部分可以以软件产品的形式体现出来，该计算机软件产品可以存储在存储介质中，如ROM/RAM、磁碟、光盘等，包括若干指令用以使得一台计算机设备(可以是个人计算机，移动终端，服务器，或者网络设备等)执行本申请各个实施例或者实施例的某些部分所述的方法。

本说明书中的各个实施例采用递进的方式描述，各个实施例之间相同或相似的部分互相参见即可，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处。本申请可用于众多通用或专用的计算机系统环境或配置中。例如：个人计算机、服务器计算机、手持设备或便携式设备、平板型设备、多处理器系统、基于微处理器的系统、置顶盒、可编程的电子设备、网络PC、小型计算机、大型计算机、包括以上任何系统或设备的分布式计算环境等等。

以上所述的具体实施例，对本申请的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本申请的具体实施例而已，并不用于限定本申请的保护范围，凡在本申请的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本申请的保护范围之内。