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表面具有粗面化结构的稀土磁体前体或稀土磁体成型体、以及它们的制造方法

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本发明提供表面具有粗面化结构的稀土磁体前体或表面具有粗面化结构的稀土磁体成型体、以及它们的制造方法，所述稀土磁体前体或稀土磁体成型体在具有粗面化结构的面形成有满足下述(a)～(c)中至少一项的凹凸。(a)Sa(算术平均高度)(ISO 25178)为5～300μm，(b)Sz(最大高度)(ISO 25178)为50～1500μm，(c)Sdr(界面扩展面积比)(ISO 25178)为0.3～12。

著录项

公开/公告号CN113228207A

专利类型发明专利
公开/公告日2021-08-06

原文格式PDF
申请/专利权人大赛璐美华株式会社;
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申请/专利号CN201980084981.3
发明设计人清水洁;板仓雅彦;和田法寿;宇野孝之;
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申请日2019-12-24
分类号H01F7/02(20060101);H01F41/02(20060101);
代理机构11105 北京市柳沈律师事务所;
代理人杨薇
地址日本东京都
入库时间 2023-06-19 12:07:15

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2023-08-01

授权

发明专利权授予

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