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基于DMD的超分辨成像光学系统公差分析方法

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基于DMD的超分辨成像光学系统的公差分析方法，属于光学系统装调技术领域，为了解决现有技术存在的问题，建立基于DMD的超分辨成像光学系统基本成像模型；根据建立的基于DMD超分辨成像光学系统的成像模型，对系统进行公差分析：给出所要分析的公差类型，包括镜片偏心、倾斜、镜片间隔误差和离焦；给出各公差项的公差预定值，按照重建图像PSNR值下降至所能接受的最低值给定公差预定值；通过反向灵敏度法对超分辨成像光学系统进行公差分析，将引入随机误差后的超分辨成像光学系统的PSF代入仿真模型，通过仿真模型进行重建，并对重建结果进行分析，得到基于DMD的超分辨成像光学系统的公差范围。该方法简单易行，便于工程应用。

著录项

公开/公告号CN113379596A

专利类型发明专利
公开/公告日2021-09-10

原文格式PDF
申请/专利权人长春理工大学;
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申请/专利号CN202110483284.4
发明设计人王超;邢思远;李英超;徐淼;史浩东;
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申请日2021-04-30
分类号G06T3/40(20060101);G06F30/20(20200101);G06T7/00(20170101);
代理机构11633 北京中理通专利代理事务所(普通合伙);
代理人刘慧宇
地址 130022 吉林省长春市朝阳区卫星路7186号
入库时间 2023-06-19 12:32:17

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2022-09-09

授权

发明专利权授予

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外文文献

1. 基于DMD的超分辨成像光学系统公差分析方法 [P] . 中国专利： CN113379596A . 2021-09-10
2. 基于DMD的双模式光学超分辨显微成像装置及方法 [P] . 中国专利： CN107167929A . 2017-09-15
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