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用于大功率LED灯的高反射率纳米膜层及其镀膜方法

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摘要

本发明公开了一种用于大功率LED灯的高反射率纳米膜层，包含Al2O3、Al和SiO2三种组成成分，且应用真空离子磁控溅镀技术镀在LED灯的光反射表面。还公开了制备这种高反射率纳米膜层的镀膜方法，依次包括等离子体表面改质处理、镀Al2O3层、镀Al层、镀SiO2层和膜质老化处理几个步骤。本发明制备的膜层具有高反射率、抗氧化性好的特点，镀膜过程一次性成膜，无需组装，可用于连续批量化的工业化生产，生产效率和产品良品率较高。

著录项

  • 公开/公告号CN101949003B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-03-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 苏州爱迪尔镀膜科技有限公司;

    申请/专利号CN201010214452.1

  • 发明设计人 戴明光;陈浩;

    申请日2010-06-30

  • 分类号C23C14/35(20060101);C23C14/08(20060101);C23C14/18(20060101);C23C14/10(20060101);F21V7/22(20060101);F21Y101/02(20060101);

  • 代理机构32103 苏州创元专利商标事务所有限公司;

  • 代理人范晴

  • 地址 215101 江苏省苏州市木渎230省道888号广成工业园7幢

  • 入库时间 2022-08-23 09:13:26

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-02-26

    专利权的转移 IPC(主分类):C23C 14/35 变更前: 变更后: 登记生效日:20140123 申请日:20100630

    专利申请权、专利权的转移

  • 2013-03-27

    授权

    授权

  • 2011-03-16

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/35 申请日:20100630

    实质审查的生效

  • 2011-01-19

    公开

    公开

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