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公开/公告号CN113906491A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-01-07
原文格式PDF
申请/专利权人 应用材料公司;
申请/专利号CN201980097163.7
发明设计人 阿克塞尔·温泽尔;李泰基;黄景灿;罗伯特·特劳纳;
申请日2019-06-05
分类号G09G3/00(20060101);G09G3/3208(20060101);G09G3/36(20060101);
代理机构11006 北京律诚同业知识产权代理有限公司;
代理人徐金国;赵静
地址 美国加利福尼亚州
入库时间 2023-06-19 13:33:57
机译: 用于在基板上生成参考图像的方法,用于基板上缺陷的检查的方法,用于在基板上生成参考图像的装置,用于检查基板上的缺陷的单元和计算机可读记录介质
机译: 在基板上检查基准图像的方法在基板上检查基准的装置上的缺陷的方法检查基板和计算机可读记录介质的缺陷的方法
机译: 缺陷检查方法,具有其上具有基板的安装台的缺陷检查设备和图像拾取装置相对移动以捕获基板的图像,并且计算机可读存储介质存储用于执行该方法的程序
机译:用于3D型硒化型有缺陷铟硒化型的电动合成衬底上的结构,用于合成气的基板上
机译:具有几何缺陷和各种压电效应的非线性弹性基板上静电非识别磁电弹性梁的非线性振动
机译:神户制钢开发了用于金刚石晶片的新制造方法,该方法可在高性能硅电子设备上沉积并沉积在硅基板上,从而大大降低了晶界,并于今年年底投入实际使用
机译:识别影响抛光硅基板上抛光诱发缺陷(PID)的良率的新方法
机译:用于减少(100)砷化镓上砷化铟生长的缺陷减少和微结构控制的基板工程。
机译:光激活细胞识别和分选(LACIS)用于选择纳米流体设备上的编辑克隆
机译:沉积在有机分子上的准粒子谱和激子 基板:G0W0-BsE方法应用于石墨烯和金属上的苯 基板
机译:用于高功率应用的金刚石基板上的薄膜电路制造。