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距离正则水平集与卷积神经网络的水平集掩膜优化方法

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距离正则水平集与卷积神经网络的水平集掩膜优化方法，为了解决掩模版在先进工艺下的优化问题，选取深度水平集掩膜数据集以及对应的掩膜标签作为训练神经网络模型的样本数据集，挑选该样本数据集中的一组图片和对应标签，同时做随机的旋转、缩放、平移和裁剪处理，并重新调整图像顺序将其合成两份三维数据包：一份存深度水平集合数据，一份存对应的标签，效果是实现了卷积神经网络和水平集的联合分割效果。

著录项

公开/公告号CN113792866A

专利类型发明专利
公开/公告日2021-12-14

原文格式PDF
申请/专利权人智腾科技股份有限公司;
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申请/专利号CN202111271532.5
发明设计人陈国晋;
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申请日2021-10-29
分类号G06N3/04(20060101);G06N3/08(20060101);G06F17/14(20060101);
代理机构21263 大连星河彩舟专利代理事务所(普通合伙);
代理人刘斌;陈玲玉
地址中国香港新界沙田科学园科技大道东16号海滨大楼2座1楼
入库时间 2023-06-19 13:43:30

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