法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-02-18
实质审查的生效 IPC(主分类):E21B43/26 专利申请号:2021111460920 申请日:20210928
实质审查的生效
机译: 等离子体产生的薄导电层的影响下的schichtwiderstands的原位研究方法
机译: 多孔层,互穿层,金属和树脂的接合结构,多孔层的制造方法,互穿层的制造方法,金属和树脂的接合方法
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