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立体控制寡核苷酸合成用光学活性片段及其制造方法、以及使用其的立体控制寡核苷酸的合成方法

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本发明提供以下述式(I)表示的立体控制寡核苷酸合成用光学活性片段及其制造方法、以及使用其的立体控制寡核苷酸的合成方法。式中，B为保护/未保护核苷碱基，R1为取代/未取代脂肪族基团，R2、R3为DMTr基或‑P(R11)(NR12)2，R11为OCH2CH2CN、SCH2CH2CN等，R12为取代/未取代的脂肪族基团或芳香族基团；X为H、烷基、O‑烷基等，Y为H、NHR13、卤素等或酰基类、醚类、硅烷基类保护羟基，或者在与X之间形成X‑Y键，n为0以上且4以下的整数。

著录项

公开/公告号CN114269764A

专利类型发明专利
公开/公告日2022-04-01

原文格式PDF
申请/专利权人株式会社纳蒂亚斯;
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申请/专利号CN201980029516.X
发明设计人片冈正典;兵藤守;
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申请日2019-05-07
分类号C07H1/00(20060101);C07H1/02(20060101);C07H21/04(20060101);
代理机构31283 上海弼兴律师事务所;
代理人王卫彬;金明花
地址日本兵库县
入库时间 2023-06-19 14:43:46

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法律状态
2022-04-01

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