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适用于Display Dry Etcher的高密度阳极膜制备工艺

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本发明公开了一种适用于Display Dry Etcher的高密度阳极膜制备工艺，属于上部电极阳极氧化工艺技术领域，首先配置电解液，然后对基材进行前处理；最后进行采用分段升流方式对基材进行阳极氧化，整流方式采用直流、交流加脉冲的方式进行，交流输出时间为0～300s，直流输出时间为0～300s，脉冲电流的输出时间为0～100s，其中直流电和交流电之间交替式输出，根据设定的频率同时叠加脉冲电流，其中所述交流电的输出比例范围为30％～50％，所述直流电的输出比例范围为70％～50％，所述交流电和直流电的频率均为50HZ～100HZ，所述脉冲的频率为50～100HZ。采用本发明工艺，可以保证获得性能良好的阳极膜膜厚，可改善产品局部(尤指倒角处)部位上的基材与阳极膜结合薄弱的缺陷。

著录项

公开/公告号CN114592226A

专利类型发明专利
公开/公告日2022-06-07

原文格式PDF
申请/专利权人重庆臻宝实业有限公司;
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申请/专利号CN202210219536.7
发明设计人李玉琼;陈立航;郑东日;王承波;刘晓松;朴永元;杨佐东;
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申请日2022-03-08
分类号C25D11/04;C25D11/10;C25D11/16;
代理机构重庆乐泰知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人郭泽培
地址 401326 重庆市九龙坡区西彭镇森迪大道66号附72号
入库时间 2023-06-19 15:35:18

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法律状态
2022-06-07

公开

发明专利申请公布

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