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特纳草提取物在预防和/或修复紫外诱导的皮肤损伤中的应用

摘要

本发明提供了特纳草提取物在预防和/或修复紫外诱导的皮肤损伤中的应用。具体地,本发明的特纳草提取物对紫外光照射前后的细胞都有很好的保护作用,非常适合用于作为化妆品的活性成分,尤其适合用于制备用于防晒的化妆品。

著录项

  • 公开/公告号CN115364003A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-11-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 爱卡德玛(亚洲)有限公司;

    申请/专利号CN202110558860.7

  • 发明设计人 不公告发明人;

    申请日2021-05-21

  • 分类号A61K8/9789;A61Q19/00;A61Q17/04;A61Q19/08;A61K36/53;A61P17/00;A61P35/00;

  • 代理机构上海一平知识产权代理有限公司;

  • 代理人马莉华;徐迅

  • 地址 中国香港新界沙田香港科学园生物科技大楼2座521室

  • 入库时间 2023-06-19 17:40:19

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-11-22

    公开

    发明专利申请公布

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