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连续性沉积薄膜时片间均一性的改善方法及其应用

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本发明提供了一种连续性沉积薄膜时片间均一性的改善方法及其应用，涉及薄膜沉积的技术领域，本发明的改善方法包括：在利用鼓泡法或者热蒸发法输运反应源蒸汽进行连续性沉积薄膜的过程中，控制反应源蒸汽供给系统的温度恒定以改善片间均一性。本发明解决了反应源蒸汽供给不足所导致的管线压力产生波动和所沉积薄膜厚度不稳定的技术问题，达到了反应源蒸汽浓度稳定且供给足够、管线压力稳定以及薄膜沉积稳定性高的技术效果。

著录项

公开/公告号CN115449779A

专利类型发明专利
公开/公告日2022-12-09

原文格式PDF
申请/专利权人拓荆科技股份有限公司;
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申请/专利号CN202211116932.3
发明设计人张阁;野沢俊久;陈启航;戚艳丽;
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申请日2022-09-14
分类号C23C16/455;C23C16/52;
代理机构北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙);
代理人刘桐亚
地址 110179 辽宁省沈阳市浑南区水家900号
入库时间 2023-06-19 17:55:01

法律信息

法律状态公告日

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法律状态
2022-12-09

公开

发明专利申请公布

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