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沉浸式光刻装置及使用光刻工艺制造微器件的方法

摘要

一种沉浸式光刻装置及使用光刻工艺制造微器件的方法,涉及控制光学组件(16)与器件(30)之间间隙(246)内的环境的环境系统(26)包括:流体屏障(254),沉浸流体系统(252),和传送区(256)。流体屏障(254)位于器件(30)附近,并且将传送区(256)保持在间隙(246)附近。沉浸流体系统(252)输送填充间隙(246)的沉浸流体(248)。传送区(256)将至少一部分邻近流体屏障(254)和器件(30)的沉浸流体(248)输送离开器件(30)。沉浸流体系统(252)能包括流体清除系统(282),其与传送区(256)流体相连。传送区(256)能够用多孔金属制成。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-09-25

    授权

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  • 2010-10-13

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20040401

    实质审查的生效

  • 2010-08-25

    公开

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