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使用反向成像方法的基于模型的辅助特征放置

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本发明提供了一种使用反向成像方法的基于模型的辅助特征放置的方法和设备。某些实施方式提供了用于标识目标掩膜布局中放置辅助特征的位置的系统和技术。在操作期间，一种实施方式可以确定用于对目标掩膜布局进行采样的空间采样频率，其中按照该空间采样频率对目标掩膜布局进行采样防止了用于计算反向掩膜场的代价函数的梯度中的空间走样。接着，系统可以通过以空间采样频率对目标掩膜布局进行采样来生成灰度图像。系统继而可以通过迭代式修改灰度图像来计算反向掩膜场。系统可以使用代价函数的梯度来引导迭代式修改过程。接着，系统可以使用形态学算子来对反向掩膜场进行滤波，以及使用滤波后的反向掩膜场来标识目标掩膜布局中的辅助特征位置。

著录项

公开/公告号CN101866374B

专利类型发明专利
公开/公告日2013-11-06

原文格式PDF
申请/专利权人新思科技有限公司;
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申请/专利号CN200910207636.2
发明设计人 A·A·普纳瓦拉;B·D·佩因特;L·D·巴尼斯;
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申请日2009-10-28
分类号G06F17/50(20060101);
代理机构11256 北京市金杜律师事务所;
代理人王茂华;李峥宇
地址美国加利福尼亚州
入库时间 2022-08-23 09:16:23

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2013-11-06

授权

授权
2012-04-11

实质审查的生效 IPC(主分类):G06F 17/50 申请日:20091028

实质审查的生效
2010-10-20

公开

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中文文献
外文文献

1. 使用反向成像方法的基于模型的辅助特征放置 [P] . 中国专利： CN101866374B . 2013.11.06
2. 使用骨架的基于规则的辅助特征放置 [P] . 中国专利： CN108957944A . 2018-12-07
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4. Model-based assist feature placement using inverse imaging approach [P] . 美国专利： US2010262946A1 . 2010-10-14

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