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用于高数值孔径光刻系统的偏振监视调制盘设计

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本发明涉及诸如晶片的半导体基板的制造，并涉及用于监视在使用用于高数值孔径光刻扫描装置的特别设计的偏振监视调制盘进行投影印刷时入射在光掩模上的偏振的状态的方法。调制盘跨过狭缝测量25个位置并被设计用于大于0.85的数值孔径。监视器提供大的偏振依赖性信号，该信号对偏振更敏感。还提供使用两个调制盘的双曝光方法，其中第一调制盘(44)包含偏振监视器(22，24)、透光区基准区域(42)和低剂量对准标记(40)。第二调制盘(46)包含标准对准标记(38)和标签。对于单曝光方法，使用三PSF低剂量对准标记(40)。调制盘还提供电磁偏置，其中依赖于边缘的蚀刻深度而使每个边缘偏置。

著录项

公开/公告号CN102326059B

专利类型发明专利
公开/公告日2014-05-21

原文格式PDF
申请/专利权人国际商业机器公司;
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申请/专利号CN201080008167.2
发明设计人 T·A·布伦纳;G·R·麦金太尔;
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申请日2010-02-19
分类号G01J4/00(20060101);
代理机构11247 北京市中咨律师事务所;
代理人于静;杨晓光
地址美国纽约
入库时间 2022-08-23 09:19:06

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2017-11-17

专利权的转移 IPC(主分类):G01J 4/00 登记生效日:20171027 变更前: 变更后: 申请日:20100219

专利申请权、专利权的转移
2017-11-17

专利权的转移 IPC(主分类):G01J 4/00 登记生效日:20171027 变更前: 变更后: 申请日:20100219

专利申请权、专利权的转移
2014-05-21

授权

授权
2014-05-21

授权

授权
2012-03-14

实质审查的生效 IPC(主分类):G01J 4/00 申请日:20100219

实质审查的生效
2012-03-14

实质审查的生效 IPC(主分类):G01J 4/00 申请日:20100219

实质审查的生效
2012-01-18

公开

公开
2012-01-18

公开

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