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磁场分布均匀化的小直径永磁体球形抛光头及该永磁体球形抛光头结构参数优化设计方法

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磁场分布均匀化的小直径永磁体球形抛光头及该永磁体球形抛光头结构参数优化设计方法，涉及抛光头及其结构参数优化方法。本发明解决了现有小直径永磁体球形抛光头的磁场分布不均匀、磁流变液吸附厚度、强度不一致的问题。本发明所述的抛光头是对称结构，由球头和圆柱体的球杆组成，球杆末端中心带有装配孔，球杆的首端固定有球头，球头是球体的一部分，在球杆与球头的连接处的外表面上设置有环形凹槽。本发明所述的优化方法是根据抛光头的三维仿真模型及其抛光时的工作环境采用仿真软件仿真进行磁场有限元分析，获得抛光头周围的磁场强度分布均匀误差，当所述误差小于5%时完成优化。本发明适用于对小曲率半径、异形面的磁流变抛光加工。

著录项

公开/公告号CN102909643B

专利类型发明专利
公开/公告日2014-10-22

原文格式PDF
申请/专利权人哈尔滨工业大学;
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申请/专利号CN201210404586.9
发明设计人陈明君;左泽轩;刘赫男;方针;苏银蕊;余波;彭慧;
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申请日2012-10-22
分类号
代理机构哈尔滨市松花江专利商标事务所;
代理人张宏威
地址 150001 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号
入库时间 2022-08-23 09:21:36

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2014-10-22

授权

授权
2013-03-20

实质审查的生效 IPC(主分类):B24B 31/14 申请日:20121022

实质审查的生效
2013-02-06

公开

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1. 磁场分布均匀化的小直径永磁体球形抛光头及该永磁体球形抛光头结构参数优化设计方法 [P] . 中国专利： CN102909643B . 2014.10.22
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