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沉积具有受控形态和纳米结构的纳米结构薄层的方法与装置

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摘要

描述了利用等离子体来制造特别是分层组织类型的纳米结构薄层的方法，以及实施该方法的装置。提供至少第一腔室(10)，在第一腔室(10)中存在具有试剂气体的注射器(14)、用来供入惰性气体的设备(31、31’)以及用于在所述第一腔室中产生等离子体的天线(16)。第二腔室(11)围绕着所述第一腔室，泵系统连接到第二腔室，包含纳米结构膜在其上制造的衬底(35)的壳体。壁(12)分隔所述第一腔室和所述第二腔室并且具有最少一个开口(13)。注射器和天线在第一腔室中以如下几何学来安排：所述注射器出口与所述天线的离所述壁较远的表面的平面之间的距离是不超过5cm的距离，并且所述表面离所述开口的距离不超过5cm。

著录项

公开/公告号CN102782183B

专利类型发明专利
公开/公告日2014-12-03

原文格式PDF
申请/专利权人米兰比可卡大学;米兰理工大学;
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申请/专利号CN201080061061.9
发明设计人克劳迪娅·里卡迪;莫雷诺·皮塞利;弗朗西斯科·西里奥·富马加利;法比奥·迪丰佐;卡洛·恩里科·博塔尼;
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申请日2010-11-30
分类号C23C16/44(20060101);C23C16/513(20060101);
代理机构11262 北京安信方达知识产权代理有限公司;
代理人高瑜;郑霞
地址意大利米兰
入库时间 2022-08-23 09:21:50

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2014-12-03

授权

授权
2013-01-09

实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 16/44 申请日:20101130

实质审查的生效
2012-11-14

公开

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