首页> 中国专利> 用于提供控制装置以控制焦炉室中的气体压力而没有来自该控制安排的、由膨胀导致的偏差的设备和方法

用于提供控制装置以控制焦炉室中的气体压力而没有来自该控制安排的、由膨胀导致的偏差的设备和方法

摘要

本发明涉及一种设备,用于提供一个控制装置以控制焦炉室中的气体压力而没有来自该控制安排的、由膨胀导致的偏差,这种偏差在出自现有技术的类似设备中是由运行过程中焦炉室的高温和温度差造成的。通过根据本发明的设备和方法避免了用于封闭、用于冷却和用于去除来自提升管的水溶性杂质的水不受控地从该控制装置中流出。本发明还涉及一种用所述设备来控制焦炉室中气体压力的方法,其中通过使用所述控制装置在没有来自该控制安排的、由膨胀导致的偏差的情况下相对于引导粗气体的收集总管来控制焦炉室的压力。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-01-14

    授权

    授权

  • 2013-09-18

    实质审查的生效 IPC(主分类):C10B 27/06 申请日:20110926

    实质审查的生效

  • 2013-05-22

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号