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EUV微光刻的照明光学系统和这种照明光学系统的EUV衰减器、具有这种照明光学系统的照明系统和投射曝光装置

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一种EUV微光刻的照明光学系统，用于将来自辐射源的照明光束导引到物场。至少一个EUV反射镜(13)包括反射面(29)，为了形成该照明光束，反射面(29)具有非平面反射镜形貌。EUV反射镜(13)具有布置在其前面的至少一个EUV衰减器。面向EUV反射镜(13)的反射面(29)的衰减器面具有衰减器形貌，该衰减器形貌设计为与该反射镜形貌互补而使得衰减器面的至少部分以恒定间隔距反射面(29)布置。结果是照明光学系统，其中可以校正物场上照明参数、例如照明强度分布或者照明角度分布的不利变化，且使不利的辐射损失尽可能少。

著录项

公开/公告号CN102365587B

专利类型发明专利
公开/公告日2015-07-22

原文格式PDF
申请/专利权人卡尔蔡司SMT有限责任公司;
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申请/专利号CN200980158506.2
发明设计人 N.施米茨;J.哈特杰斯;U.宾格尔;B.普尼尼;
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申请日2009-03-27
分类号
代理机构北京市柳沈律师事务所;
代理人邱军
地址德国上科亨
入库时间 2022-08-23 09:27:42

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2015-07-22

授权

授权
2012-04-11

实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20090327

实质审查的生效
2012-02-29

公开

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1. EUV微光刻的照明光学系统和这种照明光学系统的EUV衰减器、具有这种照明光学系统的照明系统和投射曝光装置 [P] . 中国专利： CN102365587B . 2015.07.22
2. EUV投射光刻的照明光学单元及包含该照明光学单元的光学系统 [P] . 中国专利： CN104246617B . 2018.09.25
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