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电磁波发生源查找装置,其方法和其分析方法

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摘要

本发明提供为了将装置远方的电磁场强度抑制在规定值以下，以高精度，高速地查找，指定造成装置远方的电磁场的主要原因(电磁妨碍波)的发生源的电磁波查找装置及其方法，以及电磁波发生源分析系统及其方法。本发明的特征在于通过至少设置有2个的探头(101，102)，测定受测对象(110)的附近的磁场，通过采用该2个探头的相位差的1个函数的简单计算，查找电磁波发生源的位置，求解包括该位置信息和测定磁场的值的联立方程式，由此计算受测对象上的电流分布，根据该电流分布，通过计算求出装置远方的电磁场，由此指定造成装置远方的电磁场的主要原因的发生源。

著录项

  • 公开/公告号CN1193239C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2005-03-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社日立制作所;

    申请/专利号CN00806523.3

  • 发明设计人 上坂晃一;新保健一;

    申请日2000-04-21

  • 分类号G01R29/08;G01B7/00;G01S5/12;

  • 代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人吴立明;王忠忠

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2022-08-23 08:57:20

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-06-10

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G01R 29/08 授权公告日:20050316 终止日期:20140421 申请日:20000421

    专利权的终止

  • 2005-03-16

    授权

    授权

  • 2002-06-05

    公开

    公开

  • 2002-05-22

    实质审查的生效

    实质审查的生效

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