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离子束增强弧辉渗镀涂层的装置及工艺

摘要

本发明离子束增强弧辉渗镀涂层的装置及工艺属于金属材料表面改性的范畴,其特征是在加弧辉光离子渗镀装置中,加入一个中低能束离子源,利用真空电弧原理从金属阴极电弧源发射出的金属离子流,快速沉积于利用辉光加热的工件表面,然后由中低能离子束注入碳或氮,使其沉积层与工件基体形成扩散层和镀层,把多弧离子镀沉积速度快和离子束注入反冲形成伪扩散层有机结合起来,在较低温度的工件表面快速形成金属碳、氮化合物硬层涂层。

著录项

  • 公开/公告号CN1204286C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2005-06-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 太原理工大学;

    申请/专利号CN02110190.6

  • 申请日2002-03-20

  • 分类号C23C8/36;

  • 代理机构14101 太原市科瑞达专利代理有限公司;

  • 代理人庞建英

  • 地址 030003 山西省太原市迎泽西大街79号

  • 入库时间 2022-08-23 08:57:27

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2007-05-23

    专利权的终止未缴年费专利权终止

    专利权的终止未缴年费专利权终止

  • 2005-06-01

    授权

    授权

  • 2003-04-09

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2003-01-15

    公开

    公开

  • 2002-10-23

    实质审查的生效

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