法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2007-05-23
专利权的终止未缴年费专利权终止
专利权的终止未缴年费专利权终止
2005-06-01
授权
授权
2003-04-09
实质审查的生效
实质审查的生效
2003-01-15
公开
公开
2002-10-23
实质审查的生效
实质审查的生效
机译: 等离子转移弧(PTA)沉积技术获得的金属间化合物增强的底涂层n u00ecquel的开发工艺,可保护暴露于渗碳和金属腐蚀的设备
机译: 墙体拐角处的增强元件区域含抗渗涂层,特别是用于涂有隔热材料的墙面涂层
机译: 具有环境单元的等离子弧涂覆设备,该环境单元具有带流体通道的环和用于形成低氧化物涂层的等离子弧工艺