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光成像系统及具有该光成像系统的投影成像系统

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摘要

本实用新型适用于光学设备技术领域，公开了一种光成像系统及具有该光成像系统的投影成像系统。光成像系统包括第一、第二微透镜阵列，透镜使用凸透镜形式，第一、二微透镜阵列相向间距设置或背向间距设置，各第一、二微凸透镜阵列的结构参数相同且焦距相等，第一、第二微凸透镜的光轴一一对应并重合，第一、第二微凸透镜阵列之间的距离为第一、第二微凸透镜的焦距的两倍或同一单位量级。投影成像系统包括光投射系统、反射成虚像系统和上述光成像系统。本实用新型提供的光成像系统及具有该光成像系统的投影成像系统，其可获得高亮度、高对比度、高清晰度、高分辨率的图像，避免了激光散斑效应，图像、字体边缘清晰，显像效果佳。

著录项

  • 公开/公告号CN203930303U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2014-11-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 深圳市矽韦氏科技有限公司;

    申请/专利号CN201420282679.3

  • 发明设计人 张佳;康栋;李关;

    申请日2014-05-29

  • 分类号

  • 代理机构深圳中一专利商标事务所;

  • 代理人张全文

  • 地址 518000 广东省深圳市南山区高新南四道南科苑大道西R4创新大楼A座409B

  • 入库时间 2022-08-22 00:20:08

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-05-13

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):G03B21/14 变更前: 变更后: 申请日:20140529

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2014-11-05

    授权

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