法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-07-31
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):A41D13/11 授权公告日:20150225 终止日期:20170712 申请日:20140712
专利权的终止
2015-02-25
授权
授权
机译: 用于光照相术的光学面罩,一种制造光学面罩的方法以及一种利用光学面罩在基质上制造图案阵列的方法
机译: 包含一种用于隔音材料和高密度橡胶的废氧化铁的组合物,由此制备一种用于隔音材料和高密度橡胶和隔音材料以及高密度橡胶的方法
机译: 一种制备面罩或电子部件的方法,该面罩或该面罩或电子部件的前体,电子部件,非合成热敏性非油膜和用于制造面罩或电子产品的套件。