法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-03-29
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G01N3/08 授权公告日:20150701 终止日期:20160212 申请日:20150212
专利权的终止
2015-07-01
授权
授权
机译: 用于微光刻的微镜装置,包括微镜,该微镜具有在反射镜表面上施加的反射面和在反射面之外的在反射镜基板上施加的抗反射涂层。
机译: 用于微光刻的微镜装置,包括微镜,该微镜具有在反射镜表面上施加的反射面和在反射面之外的在反射镜基板上施加的抗反射涂层。
机译: 一种具有低反射率,高透射率和优异耐刮擦性的抗反射膜的抗反射涂料组合物,一种抗反射膜及其制造方法