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用于将元件载体暴露在光下的设备

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摘要

一种用于将元件载体(170)暴露在光下的设备(100)，设备(100)包括：第一容纳板(110)，用于在第一位置容纳元件载体(170)；检测单元(120)，用于检测元件载体(170)的至少一个几何性质；以及选择单元(130)，其被配置为基于元件载体(170)的至少一个检测的几何性质确定用于在第二位置容纳元件载体(170)的第二容纳板(210)的至少一个期望的特性。

著录项

  • 公开/公告号CN205787588U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2016-12-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 奥特斯(中国)有限公司;

    申请/专利号CN201620085600.7

  • 发明设计人 安妮·泰;乔尔达诺-玛利亚·迪格雷戈里奥;李涛;

    申请日2016-01-28

  • 分类号

  • 代理机构北京路浩知识产权代理有限公司;

  • 代理人瞿卫军

  • 地址 201108 上海市闵行区莘庄工业区金都路5000号

  • 入库时间 2022-08-22 01:56:13

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-12-07

    授权

    授权

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