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一种脉冲激光激励的电磁脉冲辐射装置

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本实用新型提供一种脉冲激光激励的电磁脉冲辐射装置，利用脉冲激光作为激励源，与金属靶材料相互作用产生强电流脉冲驱动发射天线产生电磁脉冲，实现光能向微波辐射能量的转换，从而获得比较稳定可靠的电磁脉冲辐射。同时脉冲激光轰击金属靶材料会产生等离子体喷射，同时在金属靶杆上产生瞬态电流脉冲，利用同轴线缆将电流脉冲引导到微波暗室，驱动发射天线发射电磁脉冲辐射。一种脉冲激光激励的电磁脉冲辐射装置，包括脉冲激光打靶系统和测试环境；其中脉冲激光打靶系统包括脉冲激光器1、聚焦透镜2、真空腔体3、金属靶4、玻璃窗口法兰6、真空电转接法兰7以及金属靶杆10；测试环境包括发射天线8和微波暗室9。

著录项

公开/公告号CN206532874U

专利类型实用新型
公开/公告日2017-09-29

原文格式PDF
申请/专利权人中国工程物理研究院激光聚变研究中心;
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申请/专利号CN201621323448.8
发明设计人易涛;于瑞珍;李廷帅;江少恩;
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申请日2016-12-05
分类号
代理机构北京理工大学专利中心;
代理人郭德忠
地址 621037 四川省绵阳市游仙区绵山路64号
入库时间 2022-08-22 03:02:35

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2017-09-29

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