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一种直流等离子体CVD金刚石薄膜涂层制备设备

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本实用新型公开了一种直流等离子体CVD金刚石薄膜涂层制备设备，属于金刚石薄膜制备技术领域。其包括等离子炬，所述等离子炬的中心设置有阴极，所述阴极设置在引弧嘴的内部，阴极与引弧嘴之间设置有阳极通道，阳极通道上设置有氩气喷嘴，引弧嘴的外部周围设置有循环气体通道，循环气体通道与阳极通道连通，等离子炬的底部设置有阳极喷嘴，等离子炬周壁上设置有励磁线圈，等离子炬与励磁线圈之间设置有冷却通道,阳极喷嘴与沉积室连通。本实用新型提供的一种直流等离子体CVD金刚石薄膜涂层制备设备，产量高，得到的金刚石薄膜涂层面积大，使用方便，适应不同沉积参数时功率要求。

著录项

公开/公告号CN206751919U

专利类型实用新型
公开/公告日2017-12-15

原文格式PDF
申请/专利权人上海征世科技有限公司;
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申请/专利号CN201720326862.2
发明设计人龚闯;吴剑波;朱长征;余斌;
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申请日2017-03-30
分类号
代理机构上海精晟知识产权代理有限公司;
代理人冯子玲
地址 201799 上海市青浦区华浦路500号2幢西侧
入库时间 2022-08-22 03:22:24

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2017-12-15

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