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应用于3D成像的激光阵列及其激光投影装置和3D成像设备

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本实用新型公开了一种应用于3D成像的激光阵列及其激光投影装置和3D成像设备，其中应用于3D成像的激光阵列包括：半导体衬底，VCSEL光源，所述VCSEL光源以二维阵列的形式分布在所述半导体衬底的表面，其中，所述二维阵列的排布方式是通过扇形子阵列旋转复制的形式产生，由共用同一个圆心的多个相同的扇形子阵列构成的二维阵列的排布方式沿任一方向上的包含了其他任何象限的子区域均具有不相关性，二维阵列对应的是VCSEL光源的分布情况，从而分布在半导体衬底表面的VCSEL光源具有极高的不相关性，解决了现有技术中用于3D成像的VCSEL光源的不相关性低的问题，本实用新型的激光阵列主要应用在深度相机中。

著录项

公开/公告号CN207134607U

专利类型实用新型
公开/公告日2018-03-23

原文格式PDF
申请/专利权人深圳奥比中光科技有限公司;
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申请/专利号CN201720488477.8
发明设计人王兆民;许星;
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申请日2017-05-04
分类号
代理机构深圳新创友知识产权代理有限公司;
代理人江耀纯
地址 518000 广东省深圳市南山区粤兴三道8号中国地质大学产学研基地中地大楼A808
入库时间 2022-08-22 04:19:39

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2018-03-23

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1. 应用于3D成像的激光阵列及其激光投影装置和3D成像设备 [P] . 中国专利： CN207134607U . 2018.03.23
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