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一种Q开关调节装置以及激光治疗仪

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摘要

本实用新型涉及激光技术领域领域，提供了一种Q开关调节装置，包括底座、镜架下盖以及可与所述镜架下盖配合的镜架上盖，所述镜架下盖安装在所述底座上，还包括呈圆柱状的Q开关，Q开关靠近两个端面的圆周面上分别设有镀金层，两个镀金层均沿所述Q开关的圆周方向延伸，于两个所述镀金层上均安设有向外延伸的电极引出线。本实用新型的一种Q开关调节装置，通过在Q开关两头的圆周面上设置镀金层，使得Q开关不易氧化、导电性能强，且与晶体本体接触牢固，经久耐用，设置直接引出的电极引线，利于瞬间加压或退压。提供了一种激光治疗仪，包括上述的一种Q开关调节装置。本实用新型的一种激光治疗仪，具有上述的Q开关调节装置，方便用于皮肤美容。

著录项

  • 公开/公告号CN207542561U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2018-06-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 武汉华工激光医疗设备有限公司;

    申请/专利号CN201721052692.X

  • 发明设计人 朱晓峰;

    申请日2017-08-22

  • 分类号H01S3/11(20060101);A61N5/067(20060101);

  • 代理机构11228 北京汇泽知识产权代理有限公司;

  • 代理人胡建文

  • 地址 430074 湖北省武汉市东湖开发区华中科技大学科技园激光产业园

  • 入库时间 2022-08-22 05:28:39

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-06-11

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01S3/11 变更前: 变更后: 申请日:20170822

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2018-06-26

    授权

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