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用于全反射X射线荧光分析中的载样反射体清洗架

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一种用于全反射X射线荧光分析中的载样反射体清洗架，包括：底部和凸起的边缘有刻槽、中央有螺孔的清洗架底，中央有圆孔的压板，用于固定压板和连接架底的头部带螺纹、中间凸起、尾部带手柄的连接压杆。本实用新型结构简单，将反射体垂直放入架底底部的刻槽，通过控制底部刻槽的长度使反射体仅部分进入，反射体会自动嵌入到边缘的刻槽，从而使反射体保持垂直不倒状态；反射体与清洗架形成一个整体，可以一起放入清洗液中进行清洗，而过程中反射体不会掉落，反射体互相之间不会摩擦和碰撞，保证反射体表面光洁度不会损害；架底刻槽是通透的，清洗完成后，清洗液易于去除；清洗架由聚四氟材料制作，可适用于各种清洗液。

著录项

公开/公告号CN210304953U

专利类型实用新型
公开/公告日2020-04-14

原文格式PDF
申请/专利权人国家地质实验测试中心;
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申请/专利号CN201920820052.1
发明设计人詹秀春;樊兴涛;储彬彬;郭威;
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申请日2019-06-03
分类号
代理机构北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人汤东凤
地址 100037 北京市西城区百万庄大街26号
入库时间 2022-08-22 13:15:22

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2020-04-14

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