法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-07-10
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G01D 21/02 授权公告日:20160629 终止日期:20170618 申请日:20140618
专利权的终止
2016-06-29
授权
授权
2016-06-29
授权
授权
2015-02-04
实质审查的生效 IPC(主分类):G01D 21/02 申请日:20140618
实质审查的生效
2015-02-04
实质审查的生效 IPC(主分类):G01D 21/02 申请日:20140618
实质审查的生效
2015-01-07
公开
公开
2015-01-07
公开
公开
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机译: 基片集成波导毫米波环行器
机译: 失效率预测方法,失效率预测程序,半导体制造装置管理方法以及半导体装置制造方法
机译: 用垂直尺寸X,y和Z涂覆的去污剂颗粒,其中X = 1至2mm和8mm = 2且Z = 2至8mm,其中包括i)40至90%重量的阴离子或非离子表面活性剂,以核形式存在;(ii)1至40%的可溶性无机盐(III)水和0.0001至0.1%的染料S均以涂层形式存在。