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一种用于聚变反应堆的具有阻氚功能的第一壁

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本实用新型属于聚变反应堆技术，具体涉及一种用于聚变反应堆的具有阻氚功能的第一壁。包括沉积层、中间层和基底，沉积层为钨涂层，直接接触等离子体，中间层为阻氚涂层，位于沉积层和基底之间。用钨涂层取代钨块，满足第一壁工况要求和使用寿命要求且提高了第一壁结构的重量和经济性。显著降低等离子体运行过程中的感应电流及相应的电磁载荷，既能够满足聚变反应堆中第一壁的苛刻工况要求，又减小了第一壁部件中氚滞留量，从而提高了聚变反应堆氚循环效率，降低了氚增殖和氚供给的需求。

著录项

公开/公告号CN211742660U

专利类型实用新型
公开/公告日2020-10-23

原文格式PDF
申请/专利权人核工业西南物理研究院;厦门钨业股份有限公司;
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申请/专利号CN201922163894.7
发明设计人才来中;宋久鹏;曾晓晓;颜彬游;黄向玫;
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申请日2019-12-05
分类号G21B1/13(20060101);
代理机构11007 核工业专利中心;
代理人高安娜
地址 610041 四川省成都市双流西南航空港黄荆路5号
入库时间 2022-08-22 17:23:30

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