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一种耐辐照箱体及耐辐照设备

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摘要

本申请涉及核磁技术领域，提供一种耐辐照箱体及耐辐照设备，耐辐照设备包括耐辐照箱体，以及设置在设备容腔中的PCB功能板，耐辐照箱体包括主箱体以及封堵主箱体开口的箱盖，主箱体内设置有设备容腔，箱盖内侧设置有顶部屏蔽体，顶部屏蔽体朝向设备容腔一侧的面积大于设备容腔的开口面积；设备容腔用于放置PCB功能板，底部设置有底部屏蔽体，设备容腔外侧设置有环形槽，环形槽中设置有周向屏蔽体。在实际应用过程中，通过将PCB功能板设置在设备容腔中，且在设备容腔的顶部设置顶部屏蔽体，设备容腔底部设置底部屏蔽体，以及在设备容腔的周向设置周向屏蔽体，以保证PCB功能板完全被屏蔽材料包围。

著录项

  • 公开/公告号CN213844772U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2021-07-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 奇点新源国际技术开发(北京)有限公司;

    申请/专利号CN202022602922.3

  • 发明设计人 黄玉洁;

    申请日2020-11-11

  • 分类号G21F3/00(20060101);

  • 代理机构11363 北京弘权知识产权代理有限公司;

  • 代理人逯长明;许伟群

  • 地址 100081 北京市大兴区北京经济开发区科谷一街10号院2号楼5层502-1室

  • 入库时间 2022-08-22 23:19:23

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