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一种温育装置及其温育加热块

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本实用新型公开了一种温育装置及其温育加热块，温育加热块包括反应仓底板、用于接触并加热反应仓的导热铝块、对导热铝块进行加热的PI加热膜、保护导热铝块的固定块以及用于连接直线电机与反应仓底板的滑块转接板，PI加热膜环绕设置于导热铝块的外表面；固定块和导热铝块均安装于反应仓底板上，导热铝块安装于固定块的U型开口内。由于PI加热膜环绕导热铝块的外表面设置，导热铝块的外表面均可传递热量，加热更均匀，降低了导热铝块中间和两端的温度梯度，从而降低了反应仓中间和两侧的温度梯度，极大地降低了温度调试的难度。同时，PI加热膜的加热效率高于铜丝结构，大幅缩减了温育加热所需的加热时间，方便了后续检验诊断过程的进行。

著录项

公开/公告号CN214150132U

专利类型实用新型
公开/公告日2021-09-07

原文格式PDF
申请/专利权人安图实验仪器(郑州)有限公司;
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申请/专利号CN202023330209.4
发明设计人赵鹏;耿志强;李振坤;陈晓冰;潘洋;刘耀基;王超;刘聪;
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申请日2020-12-29
分类号G01N1/44(20060101);
代理机构11227 北京集佳知识产权代理有限公司;
代理人刘翠香
地址 450016 河南省郑州市郑州经济技术开发区经开第十五大街199号
入库时间 2022-08-23 00:13:13

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