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基于光学干涉技术测量样品表面相互作用的超光滑二氧化硅基底

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摘要

本实用新型公开了基于光学干涉技术测量样品表面相互作用的超光滑二氧化硅基底，包括二氧化硅层，所述二氧化硅层的底部设置有银反射层，所述银反射层的顶部和底部均固定连接有钛层，所述钛层的顶部与二氧化硅层的内壁固定连接。本实用新型通过顶层是二氧化硅层，可以更轻松地对其进行改性，比云母表面更有效地清洁这些复合材料表面，这些复合材料表面可以提前大量生产，并且在环境条件下或在真空下至少可以保持稳定数月，通过将银反射层埋入聚合物层和二氧化硅层，故此都可以进行调整，以适应表面的光学、电气、结构和机械特性，从而达到了局限性小的效果，解决了现有的表面力仪局限性较大的问题。

著录项

公开/公告号CN214201078U

专利类型实用新型
公开/公告日2021-09-14

原文格式PDF
申请/专利权人杭州表面力科技有限公司;
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申请/专利号CN202023222363.X
发明设计人蒋振豪;
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申请日2020-12-28
分类号G01N13/00(20060101);G01N21/45(20060101);G01N21/01(20060101);
代理机构33360 杭州正南创想专利代理事务所(普通合伙);
代理人杨丽萍
地址 310000 浙江省杭州市滨江区浦沿街道伟业路3号C幢2楼250室
入库时间 2022-08-23 00:23:10

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