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一种基于量子光学的同轴反射式成像系统

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本实用新型公开一种基于量子光学的同轴反射式成像系统，包括：镜头、接收器、光源，镜头设有镜筒外筒，镜筒外筒一端设有第一反射镜，另一端设有第二反射镜，第一反射镜的中心设有圆形通孔，第一反射镜、第二反射镜均为曲面圆形反射镜，且第一反射镜、第二反射镜的反射面上均镀有增透减反的膜层；第一反射镜、第二反射镜、圆形通孔的中心均位于镜筒外筒的轴线上；接收器、光源分别设于镜筒外筒两侧，光源设于第二反射镜一侧，接收器设于第一反射镜一侧；光源与第二反射镜之间设有孔径光阑，第一反射镜、第二反射镜、孔径光阑平行设置；接收器的中心位于第二反射镜的焦点上。本实用新型具有长焦距、大口径的特点，且装配及制造难度低，成像质量高。

著录项

公开/公告号CN215067500U

专利类型实用新型
公开/公告日2021-12-07

原文格式PDF
申请/专利权人毕思文;
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申请/专利号CN202120696512.1
发明设计人毕思文;王悦虹;沈希毅;沈敏;朱海龙;杜京师;周志英;张守凯;于琨;
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申请日2021-04-07
分类号G02B17/06(20060101);
代理机构11562 北京东方盛凡知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人张换君
地址 518131 广东省深圳市龙华区民治街道樟坑社区青创城B栋5A3
入库时间 2022-08-23 02:55:40

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