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具有均匀气氛场和温度场的气相沉积装置

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本实用新型设置气相沉积设备技术领域，具体一种具有均匀气氛场和温度场的气相沉积装置，包括反应管、加热反应管的炉膛；反应管的进气管分为载气管和原料控气管；所述的炉膛加热区域为温控区，温控区由具有通孔的多孔喷淋头分割成原料挥发区和沉积区；所述的挥发区设置有搅拌装置；所述的沉积区设置有基底承托装置；炉膛中，对沉积区控温的对应炉膛内设置有加热丝和多个温度探头；所述的加热丝为螺旋加热丝，且其螺距沿气流方向渐变增加。本实用新型装置能够有效实现温度场和气氛场的均匀性，能够改善二维材料的沉积均一性，改善形貌和性能。

著录项

公开/公告号CN216998556U

专利类型实用新型
公开/公告日2022-07-19

原文格式PDF
申请/专利权人湖南大学;
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申请/专利号CN202220215684.7
发明设计人段曦东;李佳;宋蓉;
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申请日2022-01-26
分类号C23C14/26;C23C14/54;C23C16/448;C23C16/455;C23C16/52;C23C16/44;C23C14/06;C23C16/30;
代理机构长沙市融智专利事务所(普通合伙);
代理人盛武生
地址 410082 湖南省长沙市岳麓区麓山南路2号
入库时间 2022-09-06 01:12:14

法律信息

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法律状态
2022-07-19

授权

实用新型专利权授予

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