公开/公告号CN104451618B
专利类型发明专利
公开/公告日2016-08-17
原文格式PDF
申请/专利权人 中国科学院金属研究所;
申请/专利号CN201410628745.2
申请日2014-11-11
分类号
代理机构沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙);
代理人张志伟
地址 110016 辽宁省沈阳市沈河区文化路72号
入库时间 2022-08-23 09:45:27
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-08-17
授权
授权
2015-04-22
实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 18/36 申请日:20141111
实质审查的生效
2015-03-25
公开
公开
机译: 一种基于辉光放电等离子体化学气相沉积技术,利用CR和NI的金属有机前驱体生产CRN和NI的NI涂层和复合涂层
机译: 制备用于摩擦学应用的氧化钇稳定的立方氧化锆-铝(NI-YZA)微粒的镍基纳米复合涂层的制备方法
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