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位置探测法和装置、曝光法和设备、控制程序以及器件制造法

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移动多个在观察坐标系上具有预定的彼此位置关系的区域的同时，根据观察单元观察目标的结果，重合度计算单元根据给定的区域间对称性计算多个区域的观察结果部分中至少一对观察结果部分的区域间重合度(步骤151-160)，并且位置信息计算单元通过获得多个区域的位置而获得目标的位置信息，其中在该位置处做为观察坐标系中多个区域的位置的函数的区域间重合度例如取最大值(步骤161)。结果，精确地探测到目标的位置信息。

著录项

公开/公告号CN1229624C

专利类型发明授权
公开/公告日2005-11-30

原文格式PDF
申请/专利权人株式会社尼康;
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申请/专利号CN01817611.9
发明设计人中岛伸一;
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申请日2001-10-19
分类号G01B21/00;H01L21/027;G03F7/20;
代理机构中原信达知识产权代理有限责任公司;
代理人武玉琴
地址日本东京
入库时间 2022-08-23 08:58:04

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2011-02-02

未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G01B 21/00 授权公告日:20051130 终止日期:20091119 申请日:20011019

专利权的终止
2005-11-30

授权

授权
2004-03-31

实质审查的生效

实质审查的生效
2004-01-21

公开

公开

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专利
中文文献
外文文献

1. 位置探测法和装置、曝光法和设备、控制程序以及器件制造法 [P] . 中国专利： CN1229624C . 2005.11.30
2. 曝光设备、曝光法及器件制造法 [P] . 中国专利： CN1476629A . 2004-02-18
3. SUBSTRATE STAGE, EXPOSURE EQUIPMENT AND IMMERSION EXPOSURE METHOD USING THE SAME, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD USING THE METHOD [P] . 日本专利： JP2011222652A . 2011-11-04

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