• 主题
高级搜索  >
历史搜索 清空历史
首页> 中国专利> 用于光刻中的照明光源形状定义的方法、系统和器件

用于光刻中的照明光源形状定义的方法、系统和器件

页面导航
  • 摘要
  • 著录项
  • 法律信息
  • 相似文献

摘要

本发明涉及光刻中的照明光源形状定义，描述了用于确定光刻处理的光刻处理条件的方法和系统。在获得输入之后，在允许非矩形子分辨率辅助特征的条件下对于照明光源和掩模设计进行第一优化。此后，在一个或多个进一步优化中优化掩模设计，对于该一个或多个进一步优化仅允许矩形子分辨率辅助特征。后者导致良好的光刻处理，同时限制了掩模设计的复杂度。

著录项

  • 公开/公告号CN103064257B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-03-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 IMEC公司;索尼株式会社;

    申请/专利号CN201210342442.5

  • 发明设计人 岩濑和也;P·德 毕晓普;

    申请日2012-09-14

  • 分类号

  • 代理机构上海专利商标事务所有限公司;

  • 代理人张欣

  • 地址 比利时勒芬

  • 入库时间 2022-08-23 09:53:19

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-03-01

    授权

    授权

  • 2014-10-08

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20120914

    实质审查的生效

  • 2013-04-24

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱：kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备：11010802029741号 ICP备案号：京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有

  • 客服微信

  • 服务号