法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-03-29
授权
授权
2014-03-12
实质审查的生效 IPC(主分类):G06F 11/36 申请日:20131028
实质审查的生效
2014-02-05
公开
公开
机译: 缺陷图像处理装置,缺陷图像处理方法,半导体缺陷分类装置和半导体缺陷分类方法
机译: 缺陷检查系统,照相装置,图像处理装置以及用于同一检测介质,缺陷记录的图像处理程序和用于缺陷检查的图像处理方法
机译: 缺陷像素处理装置和缺陷像素处理方法,能够快速,准确地确定缺陷像素